光刻机是芯片制造的"皇冠上的明珠"，也是中美科技博弈中被卡得最紧的环节。ASML 对中国的出口管制让国产光刻机从战略愿景变为紧迫需求。2022 年成立的宇量昇，携深圳+上海双国资背景，正在悄悄推进中国版 DUV 浸没式光刻机。
本研报前四章（公开）覆盖宇量昇的公司概况、股权结构、核心产品和产业链合作伙伴；Pro 部分深入技术路线、竞争格局、投资价值分析以及关键判断。
公司概况
2022 年在上海浦东低调诞生，国资控股，研发人员占比超九成
上海宇量昇科技有限公司成立于 2022 年 7 月 29 日，注册地位于上海浦东新区，是一家以光刻设备研发为核心的国资控股高科技企业。[4]
宇量昇的定位高度聚焦：专注于 DUV（深紫外）浸没式光刻机中的核心曝光系统研发，团队构成以高学历研发人员为主，硕博学历占比超过 60%。[5]
股权结构
深圳+上海双国资各持 50%，两大国家队联手布局光刻机赛道
宇量昇的股权结构简洁明了：两大国资股东各持 50%，分别代表上海和深圳两座城市的战略意志。[4]
| 股东 | 持股比例 | 背后实控方 |
|---|---|---|
| 创科微（上海） | 50% | 上海科技创业投资集团全资子公司 |
| 新凯来（深圳） | 50% | 深圳市重大产业投资集团旗下 |
2.1 新凯来的控股链条
新凯来的实控人穿透如下：深圳国资委 → 深圳市重大产业投资集团 → 深芯恒科技投资 → 新凯来。这条清晰的国资脉络意味着，宇量昇的背后最终是深圳和上海两座城市的政府意志在支撑。[4][5]
上海科技创业投资集团（上科投）是上海市科委旗下重要国资平台，专注于科技创新领域的战略性投资。
新凯来是深圳国资在半导体设备领域的核心布局平台，已自主研发 31 款半导体设备，2024 年营收约 100 亿元。
核心产品：DUV 深紫外浸没式光刻机
中芯国际 2025 年 9 月启动测试，28nm 起步，多重曝光可推进至 5nm
宇量昇的核心产品是 DUV 深紫外浸没式光刻机，采用与 ASML 类似的浸没式技术路线，专注于光刻机中技术难度最高的曝光系统。[1]
3.1 关键里程碑：中芯国际测试
2025 年 9 月，中芯国际开始测试宇量昇的 DUV 光刻机，初步测试结果令人鼓舞。这是中国国产光刻机进入顶级晶圆代工厂测试线的标志性事件。[1][3][9]
3.2 多重曝光路线
宇量昇的技术路线不止步于 28nm。通过 多重曝光技术（SAQP，自对准四重图形化），单台 DUV 设备可以在不改变光源波长的情况下实现更精细的制程节点：[7]
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单次曝光 28nm基础能力，与 ASML NXT 系列 DUV 机型的定位接近，可覆盖成熟制程需求。
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双重曝光 14nm通过两次曝光叠加，理论上可达到约 14nm 等效节点，工艺难度显著提升。
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SAQP 四重曝光 7nm/5nm自对准四重图形化，工艺流程极为复杂，但理论上可推进到 7nm 乃至 5nm 等效节点。
产业链与合作伙伴
国产配套体系逐步成形，从光源到镜头实现自主供应
光刻机是制造业中供应链最复杂的单品之一，涉及数千个精密零部件。宇量昇在新凯来的设备制造能力基础上，构建了一套初步可行的国产供应链体系。[8]
| 供应商/合作方 | 供应环节 | 备注 |
|---|---|---|
| 新凯来 | 设备制造能力，母公司 | 31 款半导体设备，2024 年营收约 100 亿元 |
| 长春光机所 / 奥普光电 | 曝光系统 | 中科院光学所系统，国内最强光学研发力量 |
| 永新光学 | 镜头模组 | A 股上市公司，精密光学元件供应商 |
| 福晶科技 | 固体激光驱动光源 | 转换效率约 3.42%，商用光源约 5.5%，仍有差距 |
| 波长光电 | 光源镜片 | 深紫外光学元件专业供应商 |
| 上海光机所 | EUV 光源研发合作 | 长期路线合作，500W LPP 光源研发中 |
从供应链结构看，曝光系统和光学元件已基本实现国产化布局，但光源功率（3.42% vs 商用 5.5%）仍是明显的技术差距。[2]
- 曝光系统：长春光机所 / 奥普光电
- 镜头模组：永新光学（A 股）
- 光源镜片：波长光电
- 设备集成：新凯来（母公司）
- 光源功率：3.42% vs 商用 5.5%，差距约 38%
- EUV 光源：上海光机所合作中，量产遥远
- 整机良率：初步测试中，量产稳定性待验证